凈化工程(潔凈室)是一個應(yīng)用行業(yè)非常廣泛的基礎(chǔ)配套產(chǎn)業(yè),目前在食品,化妝品,生物,醫(yī)藥,醫(yī)療設(shè)備,電子信息,半導(dǎo)體,精密制造,航空航天,汽車涂料等眾多行業(yè)中得到應(yīng)用,根據(jù)行業(yè)要求精密無塵,水平差異也較大.該房間由凈化工程專門設(shè)計,無論外部空氣條件如何變化,房間都具有保持原有設(shè)定溫濕度,清潔度和壓力要求的性能.因此,影響凈化工程(潔凈室)成本的因素很多.

    I.溫度和濕度

    潔凈室的溫度和濕度主要根據(jù)工藝要求確定,但在滿足工藝要求時應(yīng)考慮到人們的舒適度.隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了對溫度和濕度的技術(shù)要求越來越嚴(yán)格的趨勢.隨著加工精度越來越精細,對溫度波動范圍的要求越來越小.對于直徑為100微米的硅晶片,溫度上升1度將導(dǎo)致0.24um的線性膨脹,因此需要±0.1度的恒定溫度.同時,濕度值一般較低,因為人們在出汗后會污染產(chǎn)品,特別是對于不怕鈉的半導(dǎo)體車間,不應(yīng)超過25度.

    高濕度會產(chǎn)生更多問題.當(dāng)相對濕度超過55%時,冷卻水管壁會凝結(jié),如果在精密裝置或回路中,會引起各種事故.相對濕度容易生銹50%.另外,當(dāng)濕度太高時,硅晶片表面上的灰塵將被空氣中的水分子化學(xué)吸附,這難以去除.相對濕度越高,去除粘附力就越困難.然而,當(dāng)相對濕度低于30%時,由于靜電力的作用,顆粒也易于吸附在表面上,并且大量半導(dǎo)體器件易于破裂.